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STB33N60M2

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分立半导体产品 > 晶体管 > FET,MOSFET > 单 FET,MOSFET
制造厂商:ST(意法半导体)
功能简述:MOSFET N-CH 600V 26A D2PAK
原厂封装:封装:TO-263(D2PAK)
优势价格,STB33N60M2的国内现货当天可发货,国外现货7-10天发货
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STB33N60M2的功能参数资料 - ST公司(意法半导体)提供

STB33N60M2是意法半导体(STMicroelectronics)基于其先进的MDmesh II Plus技术平台开发的一款N沟道功率MOSFET。该器件采用优化的垂直结构设计,在单一硅片上实现了卓越的导通电阻(RDS(on))与栅极电荷(QG)的平衡,这一特性对于提升开关电源的效率至关重要。其核心在于通过创新的单元结构和工艺技术,显著降低了导通损耗和开关损耗,使得器件在高频开关应用中能够保持优异的热性能和可靠性。

该MOSFET具备600V的漏源击穿电压(VDSS,为离线式开关电源(SMPS)提供了充足的电压裕量,确保在电网波动或感性负载关断时拥有稳健的可靠性。在25°C壳温条件下,其连续漏极电流(ID)额定值高达26A,支持处理较大的功率等级。其导通电阻在10V驱动电压、13A电流条件下典型值仅为125毫欧,这意味着更低的通态压降和导通损耗,直接有助于提升系统整体能效。同时,其栅极电荷(QG)最大值控制在45.5nC(@10V),结合适中的输入电容(Ciss),有助于简化栅极驱动设计,实现快速开关并降低驱动电路的功耗。

在接口与参数方面,该器件设计为表面贴装型的D2PAK封装,具有良好的功率耗散能力,在壳温条件下最大功耗可达190W,便于在紧凑的PCB布局中进行热管理。其栅源电压(VGS)支持±25V的最大范围,提供了较强的抗干扰能力。工作结温范围覆盖-55°C至150°C,使其能够适应严苛的工业环境。对于需要可靠供应链支持的客户,可以通过授权的ST芯片代理获取正品器件和技术支持。

凭借其高电压、低损耗和高电流能力的特性,STB33N60M2非常适用于要求高效率和高功率密度的应用场景。典型应用包括服务器和电信设备的开关模式电源(SMPS)的PFC(功率因数校正)级和DC-DC变换器主开关、工业电机驱动和逆变器、不间断电源(UPS)以及照明领域的电子镇流器和LED驱动电源。在这些应用中,它能够有效提升能源转换效率,减少散热需求,并帮助设计者实现更小体积、更高可靠性的电源解决方案。

  • 型号:STB33N60M2
  • 品牌:STMicroelectronics (ST,意法半导体)
  • 封装:TO-263(D2PAK)
  • 类目:分立半导体产品 > 晶体管 > FET,MOSFET > 单 FET,MOSFET
  • 描述:MOSFET N-CH 600V 26A D2PAK
  • 包装:卷带(TR)
  • 产品状态:在售
  • FET 类型:N 通道
  • 技术:MOSFET(金属氧化物)
  • 漏源电压(Vdss):600 V
  • 25°C 时电流 - 连续漏极 (Id):26A(Tc)
  • 驱动电压(最大 Rds On,最小 Rds On):10V
  • 不同 Id、Vgs 时导通电阻(最大值):125 毫欧 @ 13A,10V
  • 不同 Id 时 Vgs(th)(最大值):4V @ 250A
  • 不同 Vgs 时栅极电荷(Qg)(最大值):45.5 nC @ 10 V
  • Vgs(最大值):±25V
  • 不同 Vds 时输入电容 (Ciss)(最大值):1781 pF @ 100 V
  • FET 功能:-
  • 功率耗散(最大值):190W(Tc)
  • 工作温度:-55°C ~ 150°C(TJ)
  • 等级:-
  • 资质:-
  • 安装类型:表面贴装型
  • 供应商器件封装:TO-263(D2PAK)
  • 封装/外壳:TO-263-3,D2PAK(2 引线 + 凸片),TO-263AB
  • 想获取STB33N60M2的更多功能参数资料?请在本页面右侧在线下载技术资料

STB33N60M2是ST意法半导体推出的一款N沟道功率MOSFET,隶属于其高性能MDmesh II Plus产品系列。该器件采用D2PAK表面贴装封装,核心规格包括600V的漏源电压(Vdss)和26A的连续漏极电流(Id),为高压大电流应用提供了坚实的基础。

其技术优势体现在优异的动态性能上:在10V驱动电压下,导通电阻(RdsOn)最大值仅为125毫欧,有助于显著降低导通损耗;同时,栅极电荷(Qg)最大值被控制在45.5nC,有利于实现快速开关并降低驱动损耗。这些特性使其在高达190W的功率耗散下,能保持高效率运行,工作结温范围覆盖-55°C至150°C,满足工业级应用的可靠性要求。

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