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PD20015S-E的图片

PD20015S-E

ST图标
晶体管 - FET,MOSFET - 射频
制造厂商:ST(意法半导体)
功能简述:TRANS RF N-CH FET POWERSO-10RF
原厂封装:封装:PowerSO-10 裸露底部焊盘
优势价格,PD20015S-E的国内现货当天可发货,国外现货7-10天发货
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PD20015S-E的功能参数资料 - ST公司(意法半导体)提供

PD20015S-E是ST意法半导体推出的一款基于LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)工艺的N沟道射频功率场效应晶体管。该器件采用先进的硅基LDMOS架构,专为在高达2GHz的频率范围内提供高功率、高效率的射频放大而设计。其核心结构优化了热管理和功率密度,通过PowerSO-10封装底部的裸露焊盘实现卓越的散热性能,确保器件在连续波或脉冲工作模式下保持稳定的电气特性。

该晶体管在13.6V的典型工作电压下,能够提供高达15W的射频输出功率,同时保持11dB的功率增益,这使其在驱动后级功率级或作为末级放大时具备优秀的信号提升能力。其额定漏源电压为40V,最大漏极电流可达7A,展现了良好的功率处理裕量。值得注意的是,其测试电流为350mA,结合优化的LDMOS技术,旨在实现高线性度和效率的平衡,适用于对信号保真度有要求的应用。尽管该型号目前已处于停产状态,但其设计参数和性能表现仍为相关射频功率电路提供了可靠的参考。

在接口与参数方面,PD20015S-E采用PowerSO-10表面贴装封装,便于自动化生产并节省PCB空间。其电气参数围绕射频功率放大的核心需求设定,高增益和功率输出特性减少了前级驱动电路的设计复杂度。对于需要稳定供应的客户,可以通过官方授权的ST一级代理渠道咨询库存或替代方案建议。器件的性能在2GHz及以下频段经过优化,使其能够适配多种标准的射频链路阻抗要求。

基于其技术规格,PD20015S-E典型应用于甚高频(VHF)至S波段的射频功率放大场景。例如,在专业移动无线电(PMR)、基站功率放大器驱动级、航空通信或某些工业加热、医疗设备中的射频能量源部分,都能发挥其功率处理优势。其设计兼顾了性能与封装实用性,曾是中功率射频放大解决方案中的一个成熟选择。

  • 制造商产品型号:PD20015S-E
  • 制造商:ST意法半导体(STMicroelectronics)
  • 描述:TRANS RF N-CH FET POWERSO-10RF
  • 系列:晶体管 - FET,MOSFET - 射频
  • 零件状态:停产
  • 晶体管类型:LDMOS
  • 频率:2GHz
  • 增益:11dB
  • 电压-测试:13.6V
  • 额定电流(安培):7A
  • 噪声系数:-
  • 电流-测试:350mA
  • 功率-输出:15W
  • 电压-额定:40V
  • 封装:PowerSO-10 裸露底部焊盘
  • 想获取PD20015S-E的更多功能参数资料?请在本页面右侧在线下载技术资料

PD20015S-E是ST意法半导体生产的一款N沟道LDMOS射频功率场效应晶体管,采用PowerSO-10封装。该器件设计用于高达2GHz的射频应用,在13.6V工作电压下可提供15W的输出功率和11dB的增益,具备40V的额定电压和7A的电流处理能力。

其核心卖点在于结合了LDMOS技术的高功率密度、良好线性度与PowerSO封装的高效散热特性,适用于需要中功率、高效率放大的射频链路。该型号主要面向通信基础设施及工业射频系统等领域的功率放大环节。

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