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STL33N60DM2

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分立半导体产品 > 晶体管 > FET,MOSFET > 单 FET,MOSFET
制造厂商:ST(意法半导体)
功能简述:MOSFET N-CH 600V 21A PWRFLAT HV
原厂封装:封装:PowerFlat(8x8)HV
优势价格,STL33N60DM2的国内现货当天可发货,国外现货7-10天发货
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STL33N60DM2的功能参数资料 - ST公司(意法半导体)提供

作为ST意法半导体MDmesh DM2系列中的一员,STL33N60DM2是一款采用先进超结(Super-Junction)技术的N沟道功率MOSFET。其核心架构基于ST专有的MDmesh DM2技术平台,该平台通过优化的垂直结构和单元密度设计,在保持高阻断电压能力的同时,显著降低了单位面积的导通电阻(RDS(on))。这种设计理念使得器件在高压开关应用中能够实现更低的传导损耗和更高的效率,是追求高功率密度设计的理想选择。

该器件在功能上表现出色,其600V的漏源击穿电压(VDSS确保了在工业级AC-DC电源、电机驱动等高压环境下的可靠运行。在25°C壳温条件下,其连续漏极电流(ID)额定值高达21A,具备强大的电流处理能力。尤为关键的是,其导通电阻在10V栅极驱动电压、10.5A测试电流下最大值仅为140毫欧,这一低RDS(on)特性直接转化为更低的导通损耗和发热量。同时,其栅极电荷(Qg)典型值较低,有助于降低开关损耗并简化栅极驱动电路的设计,提升整体系统的开关频率和响应速度。

在接口与参数方面,STL33N60DM2采用了表面贴装的PowerFlat HV(8x8)封装。这种封装具有优异的热性能和紧凑的占板面积,其低热阻特性有助于将芯片产生的热量高效地传导至PCB,从而在高达150W(Tc)的功率耗散下,确保结温(TJ)在-55°C至150°C的宽泛工作范围内保持稳定。其栅源电压(VGS)最大额定值为±25V,提供了足够的驱动安全裕度。对于需要稳定供应链和技术支持的客户,可以通过官方授权的ST中国代理获取该产品及相关设计资源。

基于其高性能参数,STL33N60DM2非常适合应用于对效率和可靠性要求苛刻的领域。其主要应用场景包括服务器和通信设备的开关电源(SMPS)初级侧开关、工业电机驱动和变频器中的功率转换模块、不间断电源(UPS)以及高效照明解决方案(如LED驱动)的功率级。在这些应用中,它能够有效提升系统能效,减少散热需求,并凭借其稳健性保障系统长期稳定运行。

  • 型号:STL33N60DM2
  • 品牌:STMicroelectronics (ST,意法半导体)
  • 封装:PowerFlat(8x8)HV
  • 类目:分立半导体产品 > 晶体管 > FET,MOSFET > 单 FET,MOSFET
  • 描述:MOSFET N-CH 600V 21A PWRFLAT HV
  • 包装:卷带(TR)
  • 产品状态:在售
  • FET 类型:N 通道
  • 技术:MOSFET(金属氧化物)
  • 漏源电压(Vdss):600 V
  • 25°C 时电流 - 连续漏极 (Id):21A(Tc)
  • 驱动电压(最大 Rds On,最小 Rds On):10V
  • 不同 Id、Vgs 时导通电阻(最大值):140 毫欧 @ 10.5A,10V
  • 不同 Id 时 Vgs(th)(最大值):5V @ 250A
  • 不同 Vgs 时栅极电荷(Qg)(最大值):43 nC @ 10 V
  • Vgs(最大值):±25V
  • 不同 Vds 时输入电容 (Ciss)(最大值):1870 pF @ 100 V
  • FET 功能:-
  • 功率耗散(最大值):150W(Tc)
  • 工作温度:-55°C ~ 150°C(TJ)
  • 等级:-
  • 资质:-
  • 安装类型:表面贴装型
  • 供应商器件封装:PowerFlat(8x8)HV
  • 封装/外壳:4-PowerVDFN
  • 想获取STL33N60DM2的更多功能参数资料?请在本页面右侧在线下载技术资料

STL33N60DM2是ST意法半导体推出的一款N沟道功率MOSFET,隶属于其高性能MDmesh DM2产品系列。该器件采用先进的超结技术,在600V的漏源电压(VDSS)下,实现了低至140毫欧(最大值,@10V, 10.5A)的导通电阻,并结合21A(Tc)的高连续电流能力,显著降低了高压开关应用中的传导损耗。

其采用热增强型PowerFlat HV表面贴装封装,支持高达150W(Tc)的功率耗散,确保了在-55°C至150°C结温范围内的可靠工作。较低的栅极电荷(Qg)有助于提升开关效率并简化驱动设计。这些特性使其成为工业电源、电机驱动和高效AC-DC转换器等应用的理想选择,旨在提升系统功率密度和整体能效。

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